磁场对电弧离子镀深管内壁沉积TiN薄膜的影响

• 作者: 刘琪 林国强 王文涛
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 电弧离子镀 磁场 管内壁 TiN薄膜
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 页码范围: 71-75
• 分类号: TB43
• 字数: 3844字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2011.01.14

摘要

用电弧离子镀设备在一端封口的Φ50 mm×200 mm×5 mm不锈钢深管内壁上沉积TiN薄膜 ,镀膜前在管子上方布置一个0.4 T的永磁体,以考察附加磁场对深管内壁沉积TiN薄膜的影响.对薄膜的厚度、表面形貌、相结构、显微硬度等随管子深度的变化进行了分析与测试 ,结果表明,薄膜的厚度及显微硬度都随管子的深度而下降,但在距管开口处前120 mm范围 内下降明显慢于未加磁场的,说明磁场对内孔沉积具有促进作用;按照显微硬度不低于20 G Pa划分,本实验的镀膜深径比达到了2.0,比未加磁场时提高了40%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林国强	大连理工大学三束材料改性实验室	59	562	13.0	21.0
2	刘琪	大连理工大学三束材料改性实验室	2	12	1.0	2.0
3	王文涛	大连理工大学三束材料改性实验室	2	21	2.0	2.0