沉积时间对MPTS自组装膜摩擦学性质的影响

• 作者: 刘金龙 周志丹 徐磊华
• 来源期刊: 润滑与密封
• 学科: 化学
• 关键词: MPTS 沉积时间 XPS 接触角 摩擦因数 自组装膜
• 年，卷（期）: 2011,（9）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 51-54
• 分类号: O647.9
• 字数: 1479字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0254-0150.2011.09.012

摘要

利用分子自组装技术在羟基化后的单晶硅硅片表面制备)3-巯基丙基)三甲氧基硅烷(MPTS)自组装膜,用X射线光电子能谱仪(XPS)对薄膜的表面结构进行表征,用JGW-360a型接触角测量仪测量硅片表面的接触角,用UMT-200型微观摩擦磨损实验机测量硅片的摩擦因数,探讨沉积时间对自组装膜的摩擦学性能的影响.结果表明:MPTS自组装膜具有亲水疏水性能,其对水的接触角超过60°；硅片表面沉积MPTS可以大幅度降低硅片的摩擦因数,使硅基片表面的摩擦因数由无膜时的0.6降至0.25左右,且具有很好的耐磨性；沉积时间对硅表面自组装膜的摩擦学性能影响较大,在本实验条件下,0.5h沉积时间所制备的MPTS-SAM硅片的耐磨性最佳,lh沉积时间制得的硅片表面最为光滑.