TiN薄膜表面离子注入层微观结构的分析研究

• 作者: 梁旺胜 胡智杰 郭德亮 陶冶
• 来源期刊: 物理测试
• 学科: 物理学
• 关键词: 同步辐射 掠入射X射线衍射 离子注入 TiN薄膜 微观结构
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 所属期刊栏目: 实验研究
• 页码范围: 13-17
• 分类号: O484.1
• 语种: 中文

摘要

利用磁过滤阴极电弧镀分别在硬质合金和高速钢基体上沉积厚度约2～3μm的TiN薄膜,并用MEVVA源离子注入装置对TiN薄膜注入金属离子V+和Nb+.应用北京同步辐射装置(BSRF)的同步辐射光源,采用掠入射X射线衍射(GIXRD)的方法对TiN薄膜表面离子注入层的微观结构进行了分析研究.结果表明:未经过离子注入的TiN薄膜均存在特定方向的择优取向,而较小剂量(1×10(17)ions/c㎡)的离子注入可以使晶粒细化、择优取向减弱或改变;当离子注入的剂量达到5×10(17)ions/c㎡时,TiN薄膜表面离子注入层被非晶化.结合透射电镜的研究结果,观察到TiN薄膜表面非晶层的厚度约为50～100nm,并简要地讨论了离子注入过程对微观结构的影响机制.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陶冶	北京航空航天大学材料科学与工程学院	29	341	11.0	17.0
2	胡智杰	北京航空航天大学材料科学与工程学院	3	7	2.0	2.0
3	梁旺胜	北京航空航天大学材料科学与工程学院	2	3	1.0	1.0
4	郭德亮	北京航空航天大学材料科学与工程学院	1	1	1.0	1.0