玻璃及不锈钢衬底N型微晶硅薄膜的制备

• 作者: 卢景宵 郑文 陈永生
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: RF-PECVD n型微晶硅薄膜 不锈钢衬底
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 40-43
• 分类号: TN304
• 字数: 2456字
• 语种: 中文

摘要

利用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)技术,以PH3为掺杂剂,在浮法玻璃衬底和不锈钢衬底上制备了纳米级的n型微晶硅薄膜.采用Wvase32型椭圆偏振光谱仪、Reinishaw2000型拉曼(Raman)光谱仪和高阻仪对薄膜进行测试,以研究沉积条件对薄膜沉积速率、晶化率和暗电导特性的影响,并对沉积功率和沉积气压进行双因素优化,绘制了双因素相图.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈永生	郑州大学材料物理教育部重点实验室	67	484	11.0	19.0
2	郑文	滨州学院物理与电子科学系	9	20	2.0	4.0
3	卢景宵	郑州大学材料物理教育部重点实验室	3	1	1.0	1.0