不同退火工艺对AZO膜性能的影响

• 作者: 姜翠宁 王克斌 王珏 闫都伦
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 掺铝氧化锌(AZO)薄膜 磁控溅射 退火工艺 电学性能 光学性能
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 页码范围: 37-39
• 分类号: O484.4|TB43
• 字数: 2045字
• 语种: 中文

摘要

掺铝氧化锌(AZO)薄膜由于其独特的光学和电学性能而倍受人们的青睐.本文采用射频磁控溅射技术,制备了综合性能优良的AZO薄膜,通过不同退火上艺处理,研究了其对AZO薄膜的组织结构、电学性能及光学性能的影响.氮气环境下的退火使得AZO膜出现了更为明显的"蓝移"现象,氢气环境下的退火提高了薄膜的导电性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姜翠宁		5	19	3.0	4.0
2	王克斌		2	4	2.0	2.0
3	闫都伦		2	2	1.0	1.0
4	王珏		2	2	1.0	1.0