TiAIN薄膜的磁过滤脉冲真空弧等离子反应沉积制备的研究

• 作者: 梁昌林 程国安 郑瑞廷 韩东艳
• 来源期刊: 北京师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 化学
• 关键词: TiAlN薄膜 梯度过渡层 钛合金 组织结构
• 年，卷（期）: 2011,（3）
• 页码范围: 249-253
• 分类号: O646.1
• 语种: 中文

摘要

采用磁过滤脉冲真空弧等离子反应沉积技术,在室温、钛合金和Si(100)单晶表面制备了TiAlN薄膜.利用SEM、XRD、EDS和XPS等对薄膜的微观组织结构及化学组分进行了观察测试分析,探讨了磁过滤脉冲真空弧等离子反应沉积技术的工艺参数对TiAlN薄膜结构的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	程国安	北京师范大学射线束技术与材料改性教育部重点实验室北京师范大学核科学与技术学院	28	204	9.0	13.0
2	郑瑞廷	北京师范大学射线束技术与材料改性教育部重点实验室北京师范大学核科学与技术学院	15	119	6.0	10.0
3	梁昌林	北京师范大学射线束技术与材料改性教育部重点实验室北京师范大学核科学与技术学院	4	23	2.0	4.0
4	韩东艳	北京师范大学射线束技术与材料改性教育部重点实验室北京师范大学核科学与技术学院	1	2	1.0	1.0