不同方法邻面去釉后釉质表面粗糙程度的比较

• 作者: 吴海苗 赵丙姣
• 来源期刊: 上海口腔医学
• 学科: 医学
• 关键词: 邻面去釉 釉质 表面粗糙度 扫描电镜
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 所属期刊栏目: 基础研究
• 页码范围: 51-54
• 分类号: R783.5
• 语种: 中文

摘要

目的:通过体外pH循环实验,研究不同方法邻面去釉后釉质表面的粗糙度.方法:选择因正畸治疗需要拔除的健康前磨牙30颗,分为3组,每颗牙随机选择1个邻面为实验面,另1个邻面为对照面.3组实验面的邻面去釉方法依次为碳化钨钢车针去釉后Sof-Lex系统抛光、碳化钨钢车针去釉后用10%马来酸配合So-Lex系统抛光、碳化钨钢车针去釉后Sofl-Lex 系统抛光并应用氟保护剂.全部样本进行体外pH循环60d.用粗糙度轮廓仪测量邻面釉质的表面粗糙度,并在扫描电镜下观察.应用SPSS 13.0软件包进行配对t检验和单因素方差分析.结果:3组实验面的表面粗糙度均大于对照面.差异显著(P＜0.01);3组实验面之间表面粗糙度的差异无统计学意义(P＞0.05).扫描电镜下,第2、3组实验面的釉质表面较第1组平滑.结论:邻面去釉后,釉质表面粗糙度增加,建议临床操作时局部应用氟化物.