热处理对掺杂WO3的ITO薄膜性能的影响

• 作者: 刘冶 刘辉 李竹影
• 来源期刊: 海军工程大学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 热处理 ITO薄膜 WO3
• 年，卷（期）: 2011,（4）
• 页码范围: 43-47
• 分类号: O484
• 字数: 3761字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-3486.2011.04.009

摘要

用磁控溅射镀膜方法,制备掺杂WO3的ITO(xWO3-ITO)薄膜,经过热处理后对掺杂薄膜的表面形貌、吸收和透射光谱、面电阻等性能进行了测试.结果表明:适当的热处理能够提高xWO3-ITO薄膜在可见光范围内的透过率和在波长为228 nm处的吸光度.同时,该薄膜热处理后的方块电阻明显降低,导电性能得到明显提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘辉	海军工程大学理学院	32	131	8.0	9.0
2	李竹影	海军工程大学理学院	25	85	5.0	8.0
3	刘冶	海军工程大学理学院	13	36	3.0	5.0