射频磁控溅射法制备的Eu掺杂ZnO薄膜的结构及其发光性质

• 作者: 杨元政 王彦利 谢致薇 高振杰
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnO: Eu3+ 光致发光 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2011,（10）
• 所属期刊栏目: 材料合成及性能研究
• 页码范围: 1004-1008
• 分类号: O482.31|O484.1
• 字数: 2794字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/fgxb20113210.1004

摘要

用射频磁控溅射法在石英衬底上制备了ZnO:Eu3+薄膜,通过X射线衍射仪、扫描电子显微镜和荧光光谱仪测试了薄膜结构、形貌以及发光性能,重点考察了溅射功率和退火工艺对其组织结构和发光性能的影响.结果表明:样品均呈现ZnO的六角纤锌矿结构,增大溅射功率有利于形成ZnO的c轴择优取向；增大溅射功率以及高温退火会使晶粒尺寸增大；观察到稀土元素内部4f壳层的电子跃迁以及从ZnO基质到Eu3+离子之间的能量传递现象,增大溅射功率以及780℃退火能提高ZnO:Eu3薄膜的发光特性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	谢致薇	广东工业大学材料与能源学院	85	436	12.0	15.0
2	杨元政	广东工业大学材料与能源学院	123	648	13.0	20.0
3	王彦利	广东工业大学材料与能源学院	3	8	2.0	2.0
4	高振杰	广东工业大学材料与能源学院	3	8	2.0	2.0