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非接触四波混频技术测试InP单晶
非接触四波混频技术测试InP单晶
作者:
孙聂枫
朱嘉祯
李晓岚
杨帆
杨瑞霞
潘静
骆新江
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
磷化铟
晶体
四波混频
深陷阱
载流子动力学
摘要:
利用四波混频(FWM)技术测试了非掺杂、掺Fe半绝缘InP单晶的光电特性, 对载流子的产生、复合和输运等过程进行了研究,分析了深陷阱在载流子的产生与输运中的作用,并给予了解释.利用光栅衰减动力学得到在不同激发水平下非平衡自由载流子的扩散系数和复合时间.通过分析衍射效率和激发能量之间的相互关系,测定了缺陷的电学特性,即它们在光照下的传输和对载流子传输的贡献.这种技术可以通过测量时间和空间上的载流子分布,进而利用光学技术测试半导体材料的光电特性.
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文献信息
篇名
非接触四波混频技术测试InP单晶
来源期刊
半导体技术
学科
工学
关键词
磷化铟
晶体
四波混频
深陷阱
载流子动力学
年,卷(期)
2011,(2)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
97-100
页数
分类号
TN304.25
字数
2544字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1003-353x.2011.02.001
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
杨瑞霞
河北工业大学信息工程学院
180
759
13.0
18.0
2
杨帆
河北工业大学信息工程学院
84
332
9.0
14.0
3
孙聂枫
中国电子科技集团公司第十三研究所
11
39
4.0
5.0
4
潘静
中国电子科技集团公司第十三研究所
4
6
2.0
2.0
5
朱嘉祯
澳大利亚国立大学工程与计算机科学学院
1
0
0.0
0.0
6
李晓岚
河北工业大学信息工程学院
4
15
2.0
3.0
7
骆新江
杭州电子科技大学天线与微波技术研究所
14
55
5.0
6.0
传播情况
被引次数趋势
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献
(0)
共引文献
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参考文献
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节点文献
引证文献
(0)
同被引文献
(0)
二级引证文献
(0)
2006(2)
参考文献(2)
二级参考文献(0)
2011(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
磷化铟
晶体
四波混频
深陷阱
载流子动力学
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体技术
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1003-353X
CN:
13-1109/TN
开本:
大16开
出版地:
石家庄179信箱46分箱
邮发代号:
18-65
创刊时间:
1976
语种:
chi
出版文献量(篇)
5044
总下载数(次)
38
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