氮化硅晶须表面化学镀镍及应用研究

• 作者: 彭进 朱俊芳 董企铭 邹文俊 郝德辉
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: α-Si3N4晶须 化学镀镍 镍镀层
• 年，卷（期）: 2011,（3）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 36-39
• 分类号: TQ153.1+2
• 字数: 3253字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2011.03.011

摘要

采用化学镀方法在α-Si3N4晶须表面镀覆了一层均匀的镍镀层,以保护氮化硅晶须在增强增韧复合材料时不被破坏.考察了温度、时间和pH值等对镀层增重和微观结构的影响;采用差热-热重分析(DTA),XRD,SEM及EDS对化学镀后的α-Si3N4晶须进行了结构、形貌以及成分分析,结果表明:α-Si3N4晶须表面镀覆了一层均匀的镍粒,镀层中含有一定量的磷,镀层为Ni-P复合镀层.镍镀层起到了保护晶须在高温高压等条件下不被破坏的作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邹文俊	河南工业大学材料科学与工程学院	103	688	14.0	19.0
2	彭进	西安交通大学材料科学与工程学院	94	550	12.0	18.0
6	董企铭	河南工业大学材料科学与工程学院	25	189	9.0	12.0
7	郝德辉	河南工业大学材料科学与工程学院	3	30	3.0	3.0
8	朱俊芳	河南工业大学材料科学与工程学院	3	30	3.0	3.0