(Al2O3-SiO2)sf/AZ91D镁基复合材料微弧氧化膜的制备及电化学阻抗谱分析

• 作者: 刘贯军 朱庆振 李文芳 杜建成 薛文斌 鲁亮
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: 镁基复合材料 微弧氧化膜 电化学阻抗谱(EIS)
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 页码范围: 74-80
• 页数: 7页
• 分类号: TG174.45
• 语种: 中文
• DOI: 10.3724/SP.J.1037.2010.00330

摘要

在硅酸盐电解液体系中,采用交流微弧氧化方法在增强体体积分数为33%的(Al2O3-SiO2)sf/AZ91D镁基复合材料表面制备出完整的保护性氧化膜.利用SEM,EDS和XRD分析了氧化膜的形貌、成分和相组成,测量了膜层的显微硬度分布.采用电化学阻抗谱(EIS)评价了微弧氧化表面处理前后复合材料的电化学腐蚀性能,确立了不同浸泡时间对应的等效电路.结果表明,微弧氧化膜主要由MgO和Mg2SiO4相组成,最大硬度达到1017 HV.氧化膜电化学阻抗模值|Z|与镁合金基体相比大幅度提高,耐腐蚀性能明显高于基体.在3.5%NaCl溶液里浸泡96 h后,EIS出现感抗弧,显示膜内部开始出现点蚀破坏.氧化膜耐蚀性由膜内致密层特性所决定.