Si基稀土Er2O3薄膜材料特性及制备研究进展

• 作者: 余本海 刘江峰 王林 陈长春
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: Si基Er2O3薄膜 能带带隙 X射线光电子谱(XPS) 光学常数 金属有机物化学气相淀积(MOCVD)
• 年，卷（期）: 2011,（6）
• 所属期刊栏目: 材料与结构
• 页码范围: 370-375
• 分类号: TN304.3
• 字数: 4381字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2011.06.005

摘要

Si基Er2O3薄膜材料具有带隙宽、k值高等特点,在微电子和光电子领域具有潜在的应用价值.首先,阐述了Si基Er2O3薄膜材料的晶体结构具有多态现象,而立方晶形的Er2O3具有方铁锰矿立方结构,易制成高度择优取向的薄膜甚至单晶膜.其次,介绍了利用X射线光电子谱(XPS)技术确定Er2O3和Si两种材料的价带和导带偏移及采用光电子谱来确定高k介质材料能带带隙.此外,还介绍了Si基Er2O3薄膜材料光学常数的测试方法及其光谱转换特性,可用于太阳光伏电池.最后,着重介绍了国内外Si基Er2O3薄膜材料制备方面的最新研究进展,并指出金属有机物化学气相淀积(MOCVD)是未来产业化制备Si基Er2O3薄膜材料的理想选择.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	余本海	信阳师范学院物理电子工程学院	53	133	6.0	9.0
2	刘江峰	信阳师范学院物理电子工程学院	15	19	2.0	3.0
3	王林	信阳师范学院物理电子工程学院	39	101	6.0	7.0
4	陈长春	信阳师范学院物理电子工程学院	3	5	2.0	2.0