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美国研究人员改善石墨烯单晶制造方法有望用于生产商用电子元件和集成电路
美国研究人员改善石墨烯单晶制造方法有望用于生产商用电子元件和集成电路
作者:
孙再吉
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
石墨烯
美国普渡大学
纳米科学
助理教授
制造方法
化学气相沉积
材料工程学
发展方向
原子晶格
透射电子显微镜
摘要:
【正】美国普渡大学研究人员们研究出一种能够改善石墨烯单晶体阵列的制造方法,使其实现类似于硅晶生产的方式与品质。"以硅晶所实现的高品质量产观点来看,石墨烯尚未到位,但在迈向这一发展方向的道路上,该研究进展可说是非常重要的一步。"普渡大学纳米科学与物理学助理教授Yong P.Chen表示。
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美国研究人员改善石墨烯单晶制造方法有望用于生产商用电子元件和集成电路
来源期刊
半导体信息
学科
经济
关键词
石墨烯
美国普渡大学
纳米科学
助理教授
制造方法
化学气相沉积
材料工程学
发展方向
原子晶格
透射电子显微镜
年,卷(期)
bdtxx_2011,(3)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
9-10
页数
2页
分类号
F416.63
字数
语种
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石墨烯
美国普渡大学
纳米科学
助理教授
制造方法
化学气相沉积
材料工程学
发展方向
原子晶格
透射电子显微镜
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期刊影响力
半导体信息
主办单位:
中国半导体行业协会分立器件分会
中国电子科技集团公司第五十五研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
CN:
开本:
16开
出版地:
南京市1601信箱43分箱(南京市中山东
邮发代号:
创刊时间:
1990
语种:
chi
出版文献量(篇)
5953
总下载数(次)
11
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