端基为磺酸基的希夫碱型侧链聚硅氧烷液晶的合成及表征

• 作者: 周光强 周艳明 孙中战 杨丽娜 高建峰
• 来源期刊: 化工新型材料
• 学科: 物理学
• 关键词: 希夫碱 聚硅氧烷 柔性连接基 扇形织构 近晶A
• 年，卷（期）: 2011,（5）
• 所属期刊栏目: 新材料与新技术
• 页码范围: 56-58
• 分类号: O753.2
• 字数: 2513字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-3536.2011.05.018

摘要

首先以对羟基苯甲醛、对氨基苯磺酸合成希夫碱化合物；然后将对羟基苯甲酸、氯乙醇、丙烯酸、含氢硅油通过取代、酯化、硅氢化反应合成聚硅氧烷化合物；聚合物再经过酰化反应后,与希夫碱发生酚解反应合成了目标液晶.通过红外光谱对液晶化合物的结构进行表征,并利用偏光显微镜和DSC测试目标产物的液晶性能.结果表明:此液晶具有近晶A型液晶特性,液晶相变化范围为135.39～198.58℃,液晶范围宽,为特殊功能材料提供了研究范围；同时,在液晶合成与制备方面也优化了合成路线.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高建峰	中北大学理学院化学系	82	391	10.0	16.0
2	周艳明		9	71	4.0	8.0
3	杨丽娜	中北大学理学院化学系	17	130	6.0	11.0
4	周光强	中北大学理学院化学系	12	116	6.0	10.0
5	孙中战	中北大学理学院化学系	11	105	6.0	10.0