电场作用下染料掺杂液晶器件的激光辐射

• 作者: 乌日娜 全薇 岱钦 徐送宁 杨健
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 激光辐射 染料掺杂 扭曲向列相液晶 电场控制
• 年，卷（期）: 2011,（7）
• 所属期刊栏目: 现代应用光学
• 页码范围: 1510-1514
• 分类号: TN241|TN141
• 字数: 1351字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/OPE.20111907.1510

摘要

通过在向列相液晶TEB30A中掺杂激光染料DCM和手性剂CB15制作了平面排列态液晶器件.采用Nd:YAG倍频532 nm波段激光作为泵浦光源,测量分析了平行于液晶器件表面方向的受激辐射光谱.当泵浦光较弱时,观察到了染料DCM较宽的荧光辐射谱;随着泵浦光的逐渐增强,辐射谱带逐渐变窄,辐射峰中心波长约为610 nm,最小半峰全宽(FWHM)为11 nm.观察了在器件玻璃基板上施加交流电场后激光辐射的变化情况,结果显示,当外加电压＜9 V时,辐射强度随着电压的增大逐渐减弱;当外加电压＞9 V,辐射强度迅速衰减,谱线变宽,显示了较好的电场控制特性.文章认为这种现象主要是由于电场作用下液晶分子取向发生变化所致.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	乌日娜	沈阳理工大学理学院	31	63	5.0	6.0
2	徐送宁	沈阳理工大学理学院	45	109	7.0	8.0
3	岱钦	沈阳理工大学理学院	47	156	7.0	11.0
4	全薇	沈阳理工大学理学院	7	32	4.0	5.0
5	杨健	沈阳理工大学理学院	2	7	1.0	2.0