低压沉积-微弧氧化制备钛金属HA-TiO2复合膜层

• 作者: 时惠英 李育磊 蒋百灵
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 微弧氧化 低压沉积 钛合金 羟基磷灰石
• 年，卷（期）: 2011,（5）
• 所属期刊栏目: 工艺研究
• 页码范围: 64-68
• 分类号: TG174.45
• 字数: 4570字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2011.05.019

摘要

采用低压沉积-微弧氧化法,在钛金属表面直接制备了具有生物活性的HA-TiO2复合膜层,通过XRD和SEM分别分析了膜层的相结构和表面形貌,探讨了沉积参数对膜层中HA含量与表面形貌的影响.结果表明:低压沉积处理是微弧氧化法制备HA-TiO2复合膜层的必要条件；复合膜层主要由金红石型和锐钛矿型TiO2及HA组成,HA以白色团簇状存在于膜层之中,或粘附在陶瓷层表面,膜层中的HA含量随电解液中HA添加量的增加而升高.随HA含量增加,膜层孔洞明显增加；沉积电压从30 V增加至120 V,HA含量增加；沉积时间超过15 min,HA含量增加趋于平缓.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋百灵	西安理工大学材料科学与工程学院	241	5240	40.0	64.0
2	时惠英	西安理工大学材料科学与工程学院	36	596	15.0	24.0
3	李育磊	西安理工大学材料科学与工程学院	2	2	1.0	1.0