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摘要:
在室温条件下利用溅射Ta2O5靶材的方法制备了Ta2O5薄膜,并采用将薄膜两侧的反射率光谱进行比较的简便方法分析评估薄膜的光吸收,发现溅射制备薄膜的额外光吸收源是溅射引起的缺氧形成的,选择适当的溅射功率和含氧比例的工作气体能有效地消除这些缺陷、不用任何加温处理就可制备得到表面平坦和高致密度的高品质Ta2O5薄膜.
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文献信息
篇名 溅射制备Ta2O5薄膜的表面形貌与光学特性
来源期刊 物理学报 学科 物理学
关键词 Ta2O5薄膜 光吸收 表面形貌 磁控溅射
年,卷(期) 2011,(3) 所属期刊栏目 物理学交叉学科及有关科学技术领域
研究方向 页码范围 753-759
页数 分类号 O431.2
字数 语种 中文
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1 狄国庆 薄膜材料江苏省重点实验室苏州大学物理科学与技术学院 3 7 2.0 2.0
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节点文献
Ta2O5薄膜
光吸收
表面形貌
磁控溅射
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物理学报
半月刊
1000-3290
11-1958/O4
大16开
北京603信箱
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1933
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