工作气压对磁控溅射Mo膜的影响

• 作者: 何智兵 廖国 张志娇 张玲 曾体贤 李俊 杨晓峰 牛忠彩 王冰 许华 谌家军 陈太红
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 直流磁控溅射 Mo薄膜 工作气压 沉积速率 表面形貌
• 年，卷（期）: 2011,（6）
• 所属期刊栏目: 工艺研究
• 页码范围: 82-84,93
• 分类号: TG174.444|O484
• 字数: 2542字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2011.06.024

摘要

采用直流磁控溅射沉积技术在不同工作气压下制备Mo膜,研究了工作气压对Mo膜的沉积速率、表面形貌及晶型结构的影响规律,研究表明:工作气压在0.1～0.5 Pa范围内,沉积速率基本保持不变,在0.5～1.5 Pa范围内沉积速率随工作气压的升高而增大；Mo膜的表面粗糙度随工作气压的升高而增加；不同工作气压下制备的Mo膜为立方结构,在较低工作气压下薄膜结晶性能较好.