浮法玻璃高硅黑色疵点的成因探讨

• 作者: 王永吉 陈碧珍
• 来源期刊: 玻璃
• 学科: 工学
• 关键词: 浮法玻璃 黑色疵点 气氛 成因
• 年，卷（期）: 2011,（4）
• 所属期刊栏目: 综论与探讨
• 页码范围: 3-5
• 分类号: TQ171
• 字数: 2188字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-1987.2011.04.001

摘要

对高硅黑色疵点的成分进行了分析,并对其成因进行了探讨,认为可能是由于窑炉气氛不匹配,或有金属异物存在,在局部形成强还原气氛,使SiO2还原成单质硅造成了黑色结石缺陷,提出了控制措施.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王永吉		7	5	1.0	2.0
2	陈碧珍		3	1	1.0	1.0