氧化铋薄膜的制备及光催化性能研究

• 作者: 张俊英 李春芝 杨靖安 王留刚
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 化学
• 关键词: 氧化铋 磁控溅射 氧氩比 热处理 光催化
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 355-358
• 分类号: O612.5|O484
• 字数: 3233字
• 语种: 中文

摘要

采用磁控溅射制备了氧化铋薄膜,研究了制备工艺对薄膜的结构、微观形貌和光学性能的影响,并对样品进行了光催化性能评价.结果表明,氧氩比和退火温度显著影响薄膜的性能.当氧氩比为20:80时获得的薄膜具有最佳光催化性能;随退火温度升高,薄膜结晶性增强,并逐渐出现Bi和Si的氧化物,经500℃退火的薄膜具有最强的光催化活性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王留刚	北京航空航天大学物理科学与核能工程学院材料物理与化学研究中心	1	10	1.0	1.0
2	张俊英	北京航空航天大学物理科学与核能工程学院材料物理与化学研究中心	26	205	9.0	13.0
3	李春芝	北京航空航天大学物理科学与核能工程学院材料物理与化学研究中心	1	10	1.0	1.0
4	杨靖安	北京航空航天大学物理科学与核能工程学院材料物理与化学研究中心	1	10	1.0	1.0