X射线二极管平响应滤片的制作

• 作者: 刘明 徐超 朱效立 李志超 谢常青 辛将 陈军宁
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 微电镀 体硅腐蚀 等离子体刻蚀 X光平响应 紫外光曝光
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 所属期刊栏目: 加工、测量与设备
• 页码范围: 53-57
• 分类号: TN305
• 字数: 1890字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2011.01.010

摘要

针对X射线二极管平响应滤片的设计要求.采用电子束蒸发生长薄金层、紫外光曝光光刻、微电镀厚金层、体硅腐蚀制作镂空结构和等离子体刻蚀去掉PI等技术,成功制备了阵列结构的圆孔直径为5μm,周期为10.854/μm,金层厚度分别为50,400 nm的薄、厚两种金层滤片.电镀过程中采用台阶仪多次测量图形四周电镀厚度后取均值的方法得到尽可能准确的电镀厚金层.滤片交付实验后,在X光能量0.1～4 keV取得的平响应曲线标准偏差与均值之比在13%以内,可以满足相关单位的具体物理研究实验要求.