双槽电沉积法制备Cu/Ag纳米多层膜

• 作者: 任凤章 朱宏喜 王姗姗 肖丽丽 顾超
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: Cu/Ag多层膜 双槽电沉积法 显微组织 显微硬度
• 年，卷（期）: 2011,（4）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 4-7
• 分类号: TQ153.1+4|TQ153.1+6
• 字数: 3367字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2011.04.002

摘要

双槽电沉积法制备了不同调制波长的Cu/Ag金属多层膜(Cu膜和Ag膜等厚),用扫描电子显微镜观察了多层膜的层状结构,并研究了不同调制波长下多层膜的显微硬度变化.结果表明:双槽电沉积法制备的Cu/Ag多层膜层状结构明显.当调制波长大于100 nm时,显微硬度随调制波长减小而增加；当小于100 nm时,硬度随调制波长减小而降低；调制波长为100 nm时,显微硬度取得最大值,为150HV.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	任凤章	河南科技大学材料科学与工程学院	221	1239	16.0	22.0
3	顾超	河南科技大学材料科学与工程学院	6	12	2.0	3.0
6	朱宏喜	河南科技大学材料科学与工程学院	20	29	3.0	4.0
7	肖丽丽	河南科技大学材料科学与工程学院	3	22	3.0	3.0
8	王姗姗	河南科技大学材料科学与工程学院	5	27	3.0	5.0