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808nm无Al量子阱激光器mini阵列的研制
808nm无Al量子阱激光器mini阵列的研制
作者:
任忠祥
夏伟
张新
徐现刚
房玉锁
李沛旭
汤庆敏
王翎
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
半导体激光器mini阵列
InGaAsP/GaInP
应变量子阱
金属有机化合物化学气相淀积
摘要:
通过分析激光器的结构,优化设计了非对称宽波导激光器结构及外延生长条件.利用低压金属有机化合物气相淀积技术(LP-MOCVD)生长了高质量的InGaAsP/GaInP无铝应变量子阱外延材料,制作成808 nm高功率半导体激光器mini阵列,将其应用到1 064 nm全固态激光器中.20℃下,制作的808 nm,0.5 cm半导体激光器mini阵列,连续驱动电流50 A时输出功率达到50 W,最高光电转换效率达到53%.将该808 nm激光器mini阵列应用到全固态1 064 nm激光模组中,50 W,1 064 nm激光输出时,工作电流只有15 A.经过多于500 h老化以后,1 064 nm全固态激光器的功率衰减小于2%.
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有源区量子阱数目
优化设计
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半导体激光器线阵列
隔离沟道
腐蚀深度
电流扩散
电流分布
内容分析
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引文网络
相关学者/机构
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(/年)
文献信息
篇名
808nm无Al量子阱激光器mini阵列的研制
来源期刊
半导体技术
学科
工学
关键词
半导体激光器mini阵列
InGaAsP/GaInP
应变量子阱
金属有机化合物化学气相淀积
年,卷(期)
2011,(12)
所属期刊栏目
材料与器件
研究方向
页码范围
920-922
页数
分类号
TN248.4
字数
1135字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1003-353x.2011.12.005
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
夏伟
56
193
6.0
10.0
5
王翎
5
9
2.0
3.0
7
张新
5
9
2.0
3.0
8
任忠祥
3
8
2.0
2.0
9
李沛旭
5
8
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房玉锁
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汤庆敏
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1996(1)
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2009(1)
参考文献(1)
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2010(1)
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二级参考文献(0)
2011(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
半导体激光器mini阵列
InGaAsP/GaInP
应变量子阱
金属有机化合物化学气相淀积
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体技术
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1003-353X
CN:
13-1109/TN
开本:
大16开
出版地:
石家庄179信箱46分箱
邮发代号:
18-65
创刊时间:
1976
语种:
chi
出版文献量(篇)
5044
总下载数(次)
38
总被引数(次)
24788
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