磁控溅射制备Y2O3-TiO2薄膜形貌的研究

• 作者: 曹月华 狄国庆
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: Y2O3-TiO2薄膜 表面形貌 原子力显微镜 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2011,（3）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 689-695
• 分类号: O481
• 语种: 中文

摘要

室温下采用射频磁控溅射法,在硅衬底上制备了Y2O3-TiO2氧化物复合薄膜.利用XRD(X-ray diffraction)和AFM(atomic force microscopy)分析观察了退火前后样品的物相、形貌等变化,讨论了致密薄膜的生长机理.实验发现,溅射功率越大,薄膜的平整度和致密度越好.对热处理前后样品的结晶结构和表面形貌的分析结果显示,在本实验参数范围内,随着溅射功率的增大,更多的Y2O3填入TiO2周围的孔隙、抑制了TiO2大颗粒的形成,改善了薄膜的平整度和致密度.热处理后的XRD测试结果还表明,Y2O3的掺入还抑制了TiO2锐钛矿晶粒的形成,有利于制备以金红石为主相的高介电常数薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	狄国庆	薄膜材料江苏省重点实验室苏州大学物理科学与技术学院	3	7	2.0	2.0
2	曹月华	薄膜材料江苏省重点实验室苏州大学物理科学与技术学院	1	2	1.0	1.0