GH4033基材相对稀释率的仿真研究

• 作者: 左敦稳 张敏 王宏宇 陈刚 黎向锋
• 来源期刊: 激光与光电子学进展
• 学科: 工学
• 关键词: 激光技术 多道激光熔覆 稀释率 有限元 GH4033 涂层
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 页码范围: 100-104
• 页数: 5页
• 分类号: TF124.85
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/LOP48.011601

摘要

在研究多道激光熔覆稀释率时提出基材相对稀释率概念及其计算公式,并从冷却时间、搭接中心偏距和搭接率研究第一道对第二道的热效应以及基材相对稀释率.结果表明,GH4033在自然冷却情况下需要经历较长的冷却时间(360 s)才能明显减小第一道对第二道的热效应,基材相对稀释率才会接近0;搭接中心偏距越大,基材相对稀释率越小;多道激光熔覆比较理想的搭接率为50%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张敏		63	248	10.0	13.0
2	左敦稳		510	3780	26.0	32.0
3	黎向锋		109	810	15.0	20.0
4	陈刚		7	48	4.0	6.0
5	王宏宇		14	177	10.0	13.0