硅对低温胁迫下黄瓜幼苗生长的影响

• 作者: 周秀杰 束良佐 王海红 祝鹏飞
• 来源期刊: 生态科学
• 学科: 农学
• 关键词: 硅 低温胁迫 黄瓜幼苗 膜脂过氧化 保护酶
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 38-42
• 分类号: Q945.78|S123
• 字数: 4310字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1008-8873.2011.01.007

摘要

采用砂基培养的方法,研究硅对低温胁迫下黄瓜幼苗生长的影响.结果表明加硅处理能使低温胁迫下的黄瓜幼苗超氧化物歧化酶(SOD)、过氧化物酶(POD)活性显著升高;丙二醛(MDA)含量和超氧阴离子自由基(0()2)产生速率显著下降,叶片质膜透性降低;硅提高了低温胁迫下黄瓜幼苗的可溶性蛋白质和叶绿素含量、叶绿素a/b比值及植株生物量.因此,硅可以减弱低温胁迫对黄瓜幼苗的伤害.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王海红	淮北师范大学生命科学学院资源植物生物学安徽省重点实验室	2	21	2.0	2.0
2	祝鹏飞	淮北师范大学生命科学学院资源植物生物学安徽省重点实验室	13	72	6.0	7.0
3	束良佐	淮北师范大学生命科学学院资源植物生物学安徽省重点实验室	18	79	6.0	8.0
4	周秀杰	淮北师范大学生命科学学院资源植物生物学安徽省重点实验室	8	57	5.0	7.0