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摘要:
应用自组装技术在Cu(OH)2纳米柱/CuO微花阶层结构表面制备硬脂酸自组装膜(SAM),运用电化学阻抗谱探讨了形成自组装膜的较佳浓度和自组装时间,通过极化曲线和循环伏安法考察了硬脂酸自组装膜在0.1 mol/L NaCl溶液中对铜电极的缓蚀性能.结果表明,当CuO/Cu(OH)2电极在8 mmol/L硬脂酸溶液中自组装24 h时,得到的硬脂酸自组装膜能显著提高铜电极的耐蚀性;与裸铜电极相比,SAM-CuO/Cu(OH)2电极的腐蚀电流降低了2个数量级,缓蚀效率达到98.81%.
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关键词云
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文献信息
篇名 铜表面硬脂酸自组装膜的制备及耐腐蚀性能
来源期刊 电镀与涂饰 学科 工学
关键词 铜电极 硬脂酸 自组装膜 电化学阻抗谱 极化曲线
年,卷(期) 2011,(10) 所属期刊栏目 腐蚀防护
研究方向 页码范围 45-49
页数 分类号 TG178
字数 4220字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李淑英 大连理工大学化工学院 61 535 12.0 19.0
2 张琳 大连理工大学化工学院 35 363 10.0 18.0
3 余相仁 大连理工大学化工学院 4 26 4.0 4.0
4 范洪强 大连理工大学化工学院 11 44 4.0 6.0
5 钱备 大连理工大学化工学院 5 30 4.0 5.0
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自组装膜
电化学阻抗谱
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电镀与涂饰
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1004-227X
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1982
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