溅射功率对NiO薄膜性质的影响

• 作者: 刘楠 向嵘 李野 王新 田景全 端木庆铎
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: 射频磁控溅射 氧化镍 结构 光学 电学
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 所属期刊栏目: 器件制备技术及器件物理
• 页码范围: 158-160
• 分类号: TB34
• 字数: 2175字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/YJYXS20112602.0158

摘要

在室温条件下,采用射频磁控溅射的方法在石英衬底上制备了NiO薄膜,深入研究了不同溅射功率对NiO的结构、光学和电学特性的影响.随着溅射功率的升高,NiO薄膜逐渐由非晶态薄膜转变成具有(111)择优取向的晶态薄膜,同时发现NiO薄膜在可见光区透过率较大,而在紫外光区透过率减小;随着溅射功率的升高,薄膜在可见光区域和紫外区域的光学透过率均明显减小,同时禁带宽度也减小,但导电性增强.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	田景全	长春理工大学理学院	24	327	8.0	17.0
2	李野	长春理工大学理学院	68	297	9.0	13.0
3	端木庆铎	长春理工大学理学院	56	241	8.0	12.0
4	王新	长春理工大学理学院	42	87	5.0	6.0
5	向嵘	长春理工大学理学院	12	57	5.0	6.0
6	刘楠	长春理工大学理学院	2	8	2.0	2.0