溅射环境下基片表面所受到的轰击能量研究

• 作者: 曹政 李洪涛 杨波 蒋百灵
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 溅射 Langmuir探针 轰击能量 微观形貌
• 年，卷（期）: 2011,（3）
• 页码范围: 763-767
• 分类号: O484
• 字数: 3440字
• 语种: 中文

摘要

溅射环境下基于薄膜的沉积速率和Langmuir探针测出的基片位置处离子流通量量化了单位时间内基片表面微区所接受的溅射中性原子的轰击能量Ec1和各种轰击离子传递给基片的轰击能量Ec2;Ec1和Ec2的数量级近似相同,Ec1和Ec2同时作用于基片表面微区加速了薄膜沉积过程中最表层原子的表面扩散进程,Ec1和Ec2持续作用所引起的能量积淀和温升效应可促进薄膜表层下方原子的体扩散进程.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋百灵	西安理工大学材料科学与工程学院	241	5240	40.0	64.0
2	杨波	西安理工大学材料科学与工程学院	35	246	8.0	14.0
3	李洪涛	西安理工大学材料科学与工程学院	23	146	8.0	10.0
4	曹政	西安理工大学材料科学与工程学院	12	52	5.0	6.0