用掠入射XAFS方法研究Ti/Ni/Ti纳米薄膜的界面结构

• 作者: 于海生 姜政 张硕 王建强 顾颂琦 高星 魏向军 黄宇营
• 来源期刊: 核技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 掠入射 X射线吸收精细结构(XAFS) Ti/Ni/Ti薄膜 X射线反射(XRR)
• 年，卷（期）: 2011,（7）
• 所属期刊栏目: 新一代同步辐射技术及应用
• 页码范围: 489-493
• 页数: 5页
• 分类号: O434.19
• 字数: 2614字
• 语种: 中文

摘要

在上海光源BL14W1线站建立了掠入射XAFS(GI-XAFS)方法,利用GI-XAFS方法并结合X射线反射(XRR)研究了直流磁控溅射方法生长在W/Si基底上的Ti/Ni/Ti纳米薄膜的界面结构随Ni层厚度的变化.结果表明,随着薄膜厚度的增加,Ni/Ti界面层间的相互扩散有所增加,Ni层厚度为5 nm时,Ni/Ti界面层间的扩散厚度为2 nm左右;Ni层厚度为1 nm时,由于无序度较大,Ni-Ni配位和Ni-Ti配位的键长有所收缩;随着薄膜Ni层厚度的减小,无序度逐渐增加,Ni-Ti配位增加,Ni-Ni配位减少.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高星	中国科学院上海应用物理研究所	138	1635	23.0	34.0
2	黄宇营	中国科学院上海应用物理研究所	75	448	11.0	17.0
3	王建强	中国科学院上海应用物理研究所	22	110	5.0	10.0
4	魏向军	中国科学院上海应用物理研究所	7	32	3.0	5.0
5	张硕	中国科学院上海应用物理研究所	21	75	5.0	7.0
6	姜政	中国科学院上海应用物理研究所	14	38	3.0	5.0
7	于海生	中国科学院上海应用物理研究所	2	5	1.0	2.0
8	顾颂琦	中国科学院上海应用物理研究所	4	28	3.0	4.0