磁控溅射氧化钛薄膜的电学特性研究

• 作者: 吴志明 居勇锋 李林 蒋亚东
• 来源期刊: 电子器件
• 学科: 工学
• 关键词: TiOx薄膜 霍尔效应 X射线光电子能谱 电阻温度系数
• 年，卷（期）: 2011,（6）
• 所属期刊栏目: 固态电子器件及材料
• 页码范围: 625-628
• 分类号: TN305.92
• 字数: 3164字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-9490.2011.06.006

摘要

采用直流磁控溅射法在K9玻璃上制备了不同溅射温度和氧气流量的氧化钛(TiOx)薄膜.采用XPS、霍尔效应测试仪对薄膜的组份、载流子浓度和迁移率进行了测试,发现随着溅射氧气流量的增大,薄膜中的氧元素比例增大,载流子浓度减小,迁移率增大.分析了TiOx薄膜的电阻温度系数(TCR)与溅射温度和氧分压的关系,薄膜的电阻率从0.01Ω·cm上升到2 Ω.cm时,TCR值从-1.3％上升到-2.14％.同一温度制备的TiOx薄膜随着氧气流量的增大TCR增大；方阻值相同的TiOx薄膜,随着制备温度的提高其TCR增大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李林	电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室	28	137	7.0	10.0
2	吴志明	电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室	78	544	13.0	17.0
3	蒋亚东	电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室	318	2024	18.0	25.0
4	居勇锋	电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室	1	2	1.0	1.0