催化剂对纳米非晶碳膜场发射性能的影响

• 作者: 姚宁 张兵临 张新月 曾凡光
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 纳米非晶碳膜 催化剂 场发射
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 所属期刊栏目: 器件制备及器件物理
• 页码范围: 83-86
• 分类号: O462.4
• 字数: 2178字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/fgxb20113201.0083

摘要

利用微波等离子体增强化学气相沉积(MPECVD)法,在经处理的单晶硅衬底上沉积了纳米非晶碳薄膜.通过Raman、SEM、XRD表征,研究了催化剂对纳米非晶碳膜的生长速率及场发射性能的影响.结果表明,在制备纳米非晶碳膜时使用FeC13,作为催化剂可大幅提高其生长速率.在相同的制备条件下,与未加FeCl3催化剂制备的纳米非晶碳膜的场发射性能相比,加催化剂制备的碳膜开启电场降至0.5 V·μm-1;在1.8 V·μm-1的电场下,电流密度可以达到2.6 mA·cm-2,而且发射点密度较大、分布均匀.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姚宁	郑州大学材料物理教育部重点实验室	122	692	12.0	18.0
2	张兵临	郑州大学材料物理教育部重点实验室	95	608	12.0	18.0
3	张新月	郑州航空工业管理学院数理系	10	21	3.0	4.0
4	曾凡光	郑州航空工业管理学院数理系	35	53	4.0	4.0