射频反应磁控溅射制备ZnO薄膜的微结构及其光学性能

• 作者: 吕建国 夏齐萍 孙兆奇 宋学萍 汪小小
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 射频反应磁控溅射 ZnO薄膜 微结构 光学性能
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 页码范围: 430-434
• 分类号: O484
• 字数: 2409字
• 语种: 中文

摘要

采用射频反应磁控溅射技术在石英和Si衬底上制备了高度c轴择优取向的ZnO薄膜,样品的氧氩流量比分别为10:40,20:40,30:40,40:40.利用X射线衍射仪、表面轮廓仪、原子力显微镜和紫外-可见分光光度计研究了样品的微结构与光学特性.研究表明:氧氩流量比为30:40的样品结晶质量最好.所制备的ZnO薄膜的可见光平均透射率均大于87%.随着氧氩流量比的增大,薄膜的透射率呈非单调变化,氧氩流量比为30:40的样品在可见光范围的平均透射率可达93%.光学带隙随着氧氩流量比的增大,先增大后减小.与块材ZnO的带隙(3.37 eV)相比,ZnO薄膜的带隙均变窄.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宋学萍	安徽大学物理与材料科学学院	63	367	10.0	14.0
2	孙兆奇	安徽大学物理与材料科学学院	91	563	11.0	16.0
3	吕建国	安徽大学物理与材料科学学院	18	61	5.0	6.0
7	汪小小	安徽大学物理与材料科学学院	2	6	1.0	2.0
8	夏齐萍	安徽大学物理与材料科学学院	2	6	1.0	2.0