陶瓷基体表面粗糙度对Ni-Cr薄膜换能元性能的影响

• 作者: 李国新 焦清介 王广海
• 来源期刊: 兵工学报
• 学科: 工学
• 关键词: 物理化学 Ni-Cr薄膜 磁控溅射 表面粗糙度 电性能 形貌 附着力 基底
• 年，卷（期）: 2011,（5）
• 页码范围: 548-553
• 分类号: TJ450.1
• 字数: 3557字
• 语种: 中文

摘要

研究了Al2O3(95%)陶瓷基底的粗糙度对Ni-Cr(80/20)合金薄膜及薄膜换能元性能的影响.利用磁控溅射法在不同粗糙度的基底上制备了Ni-Cr合金薄膜.通过扫描电镜、划痕法、4探针法对薄膜的微观结构、附着性能、电性能进行了研究.根据D-最优化法测定了基底粗糙度不同的薄膜换能元爆发电压、爆发电流.结果表明:随着基底粗糙度的增大,薄膜颗粒度增大,结构缺陷增多,电阻率增大,Ni-Cr薄膜附着力变大;基底粗糙度不同的样品随着刺激量的增大,爆发时间的差别逐渐缩小,当充电电压达到37 V时其爆发时间均接近20μs.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	焦清介	北京理工大学爆炸科学与技术国家重点实验室	178	1313	16.0	21.0
2	李国新	北京理工大学爆炸科学与技术国家重点实验室	29	198	6.0	13.0
3	王广海	北京理工大学爆炸科学与技术国家重点实验室	8	31	3.0	5.0