Al-AlN太阳能选择性吸收涂层的中频溅射工艺研究

• 作者: 付志强 岳文 彭志坚 梁彤翔 王成彪 郭文利
• 来源期刊: 太阳能学报
• 学科: 工学
• 关键词: Al-AlN 选择性吸收涂层 中频反应溅射 工艺参数
• 年，卷（期）: 2011,（12）
• 页码范围: 1753-1757
• 分类号: TB43
• 字数: 1918字
• 语种: 中文

摘要

探讨了AlN膜和渐变Al-AlN选择性吸收涂层的中频溅射技术,结果表明:增大铝靶电流或减小氩气流量有助于改善AlN反应溅射的工艺稳定性；随着氮气流量的增加,AlN膜的N/Al原子比增大,减小氩气流量或增大铝靶电流对制备满足理想化学计量比的AlN膜有利；AlN膜的致密性随氮气流量和铝靶电流的增大而改善,但氩气流量对AlN致密性没有明显影响；制备的渐变Al-AlN选择性吸收涂层可见光反射率低于6％.光谱选择性较好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭文利	清华大学核能与新能源技术研究院精细陶瓷北京市重点实验室	24	98	6.0	9.0
2	梁彤翔	清华大学核能与新能源技术研究院精细陶瓷北京市重点实验室	9	50	5.0	7.0