半导体激光器腔面增透膜AIN薄膜的制备

• 作者: 乔忠良 周路 张斯钰 王云华 白端元 薄报学 贾宝山 高欣
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 工学
• 关键词: 增透膜 折射率 溅射 灾变性光学损伤
• 年，卷（期）: 2011,（12）
• 所属期刊栏目: 器件制备及器件物理
• 页码范围: 1292-1296
• 分类号: TN248.4
• 字数: 2858字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/fgxb20113212.1292

摘要

提出了一种新的半导体激光器增透膜——A1N膜,并用matlab软件模拟分析了不同腔面反射率对激光器输出功率的影响,得到激光器最大输出功率时前后腔面的反射率的最佳值.采用反应磁控溅射技术,利用高纯铝靶(99.999％)和N2+ Ar的混合气体在K9玻璃基片上沉积了AlN薄膜.利用Filmetrics系统对薄膜进行光学性能测试,分析了不同工艺参数对薄膜沉积速率和折射率的影响.将最优条件下制得的AlN单层增透膜用于半导体激光器上,光学灾变损伤阈值和器件输出功率都得到了很大的提高.