沉积温度对磁控溅射BiFeO3薄膜结构和性能的影响

• 作者: 刘保亭 张婷 王宽冒 赵庆勋 马继奎 魏大勇
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 沉积温度 SrRuO3 BiFeO3薄膜
• 年，卷（期）: 2011,（4）
• 页码范围: 921-925
• 分类号: O484
• 字数: 2889字
• 语种: 中文

摘要

应用磁控溅射法在以SrRuO3 (SRO)薄膜为缓冲层的Pt/TiO2/SiO2/Si(001)基片上制备了多晶BiFeO3 (BFO)薄膜,构架了SRO/BFO/SRO异质结电容器.采用X射线衍射、铁电测试仪等研究沉积温度对BFO薄膜结构和性能的影响.X射线衍射图谱显示BFO薄膜为多晶结构.在2.5 kHz测试频率下,500℃生长的BFO薄膜呈现比较饱和的电滞回线,2Pr为145μC/cm2,矫顽场Ec为158 kV/cm,漏电流密度约为2.4×104 A/cm2.漏电机制研究表明,在低电场区,SRO/BFO/SRO电容器满足欧姆导电机制,在高电场区,满足普尔-弗兰克导电机理.实验发现:SRO/BFO/SRO电容器经过109翻转后仍具有良好的抗疲劳特性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王宽冒	河北大学物理科学与技术学院河北省光电信息材料重点实验室	9	52	5.0	7.0
2	赵庆勋	河北大学物理科学与技术学院河北省光电信息材料重点实验室	54	254	10.0	13.0
3	张婷	河北大学物理科学与技术学院河北省光电信息材料重点实验室	28	88	4.0	9.0
4	马继奎	河北大学物理科学与技术学院河北省光电信息材料重点实验室	4	22	3.0	4.0
5	魏大勇	河北大学物理科学与技术学院河北省光电信息材料重点实验室	5	27	3.0	5.0