氢化物发生-原子荧光光谱法测定硒中痕量锑

• 作者: 刘天平 戴凤英
• 来源期刊: 冶金分析
• 学科: 化学
• 关键词: 氢化物发生-原子荧光光谱法 硒 锑
• 年，卷（期）: 2011,（9）
• 页码范围: 55-58
• 分类号: O657.31
• 字数: 2862字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-7571.2011.09.013

摘要

硒样品经硝酸和盐酸溶解后,加入氯化羟胺将硒(Ⅵ)还原成单质硒,使基体与杂质元素分离,用氢化物发生-原子荧光光谱法测定样品中锑.研究了氢化物发生的介质和酸度、硼氢化钾溶液浓度、预还原剂用量、预还原时间、氯化羟胺用量对测定结果的影响,确定了最佳测定条件.干扰试验表明硒样品中共存元素对测定无干扰.在最佳条件下,锑浓度在0～100ng/mL范围内与荧光强度呈良好线性关系,相关系数大于0.999 5,方法的检出限为0.23ng/mL.将方法应用于实际样品分析,测得结果和电感耦合等离子体原子发射光谱法(ICPAES)基本一致,相对标准偏差(n=11)小于10％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘天平	广州有色金属研究院分析测试中心	15	84	6.0	8.0
2	戴凤英	广州有色金属研究院分析测试中心	17	49	4.0	5.0