晶片表面Haze值研究

• 作者: 宋晶 张伟才 杨洪星 赵权
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: Haze值 光散射 表面粗糙度 一致性 扫描表面检查系统
• 年，卷（期）: 2011,（9）
• 所属期刊栏目: 材料与器件
• 页码范围: 681-683
• 分类号: TN304
• 字数: 1717字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353x.2011.09.007

摘要

介绍了晶片表面Haze值的定义和理论依据,通过对SSIS系统的原理分析,揭示了H aze是一种间接反映晶片表面状态的光学信号.通过对不同表面状态抛光片的光学扫描,研究了晶片表面粗糙度与Haze值的关系；通过对Si抛光片和砷化镓抛光片的扫描对比,研究了晶片本体反射系数对Haze值的影响.研究结果表明,同种材料的Haze值随着表面粗糙度的增大而增大,而不同的材料即使拥有相似的表面粗糙度,Haze值也会因本体反射系数的不同而呈现很大差异.通过对Haze扫描图的特征分析,研究了Haze值分布与晶片表面均匀性的关系,成功地利用Haze值分布将表面性状化,为化学机械抛光和湿法清洗工艺提供了一个新的反馈手段.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵权	中国电子科技集团公司第四十六研究所	30	136	6.0	9.0
2	宋晶	中国电子科技集团公司第四十六研究所	8	17	3.0	3.0
3	杨洪星	中国电子科技集团公司第四十六研究所	50	145	6.0	8.0
4	张伟才	中国电子科技集团公司第四十六研究所	22	42	4.0	4.0