源搅拌对混响室场均匀性的改善

• 作者: 李爽 王建国
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 混响室 高功率微波 源搅拌 场均匀性
• 年，卷（期）: 2011,（10）
• 所属期刊栏目: 高功率微波
• 页码范围: 2724-2728
• 分类号: O441.4
• 字数: 2765字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/HPLPB20112310.2724

摘要

研究了在短脉冲波激励下,源搅拌方法对混响室内场分布的影响效果.分析了混响室内场分布特征的影响因素,得到了影响源搅拌的相关参量.研究改变激励源的位置对腔体内场分布的影响效果,主要对比了电场的最大值、分布标准差等电场统计特征.结果表明:通过连续地移动激励源对场分布进行搅拌,混响室内的电场最大值可以达到约6.7 kV/m,而且场值的空间分布标准差降至3 dB以下,能量分布也更加均衡.因此,采用源搅拌方法可以有效地改善腔内的场分布,提高场分布的均匀性,有利于构造均匀的电磁场环境.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王建国		123	908	14.0	23.0
5	李爽		26	80	4.0	7.0