氧化温度对TiAlN薄膜成分的影响

• 作者: 张勇 邹敏 霍红英
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: TiAlN薄膜 氧化处理 成分分析
• 年，卷（期）: 2011,（5）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 48-50
• 分类号: TG174.444
• 字数: 2313字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2011.05.014

摘要

采用磁控溅射方法在硬质合金表面沉积TiAlN硬质薄膜,并在400～850℃的温度下进行氧化处理,通过XPS分析氧化后薄膜表面层的物质组成及变化.结果表明:氧化后的薄膜表面层存在AlN,TiN,Al2O3,TiO2和N-O;随着氧化温度的升高,氧元素和铝元素增加,氮元素和钛元素减少,最终在薄膜表面形成一层耐高温的Al2O3保护层.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邹敏		53	359	11.0	16.0
2	霍红英		20	93	5.0	9.0
3	张勇		1	1	1.0	1.0