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摘要:
红外焦平面阵列的非均匀性噪音是制约红外成像质量的主要因素,非均匀性校正是红外焦平面器件应用的一个关键技术.本文提出了一种基于焦平面归一化响应特性且易于实现的非均匀性校正算法,并基于像元分布的卡方直方图提出一种新的图像非均匀性评估方法,即校正比例.该方法的校正输出考虑了每个像元的观测值与焦平面的响应信号的平均值,校正参量通过将像元的输出与其理想校正结果之间的偏差用焦平面响应的平均值建立联系而计算得到.提出的校正比例兼顾考虑了焦平面响应的时间与空间特性,比现有的图像非均匀性评估方法更能合理衡量焦平面的非均匀性程度.多种非均匀性校正的评价数据以及实验结果表明,该算法的校正效果优于两点校正法与原值拟合二阶校正法,并对于响应异常的像元具有较强的校正能力.此外其校正准确度高,所需参量少,易于实时处理,具有较强的实用价值.
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内容分析
关键词云
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文献信息
篇名 基于焦平面归一化响应特性的红外非均匀性校正
来源期刊 光子学报 学科 工学
关键词 红外焦平面阵列 非均匀性校正 卡方直方图 校正比例
年,卷(期) 2011,(6) 所属期刊栏目 红外
研究方向 页码范围 926-932
页数 分类号 TN216
字数 5506字 语种 中文
DOI 10.3788/gzxb20114006.0926
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 陈钱 南京理工大学光电工程国防重点学科实验室 248 2662 25.0 37.0
2 顾国华 南京理工大学光电工程国防重点学科实验室 172 1825 20.0 31.0
3 左超 南京理工大学光电工程国防重点学科实验室 15 40 3.0 6.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
红外焦平面阵列
非均匀性校正
卡方直方图
校正比例
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光子学报
月刊
1004-4213
61-1235/O4
大16开
西安市长安区新型工业园信息大道17号47分箱
52-105
1972
chi
出版文献量(篇)
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70454
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