涂敷含硼硅玻璃SiC涂层的C/SiC复合材料空气氧化行为

• 作者: 刘永胜 左新章 张立同 成来飞 曹素
• 来源期刊: 复合材料学报
• 学科: 工学
• 关键词: 2D C/SiC复合材料 硼硅玻璃 自愈合涂层 氧化 形貌 质量变化 残余强度
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 页码范围: 142-148
• 页数: 7页
• 分类号: TB332
• 语种: 中文

摘要

以2D C/SiC复合材料为基底,采用聚合物裂解工艺(Polymer plyen)制备了含硼硅玻璃SiC自愈合涂层.利用扫描电镜对含硼硅玻璃SiC涂层的2D C/SiC复合材料氧化前后的微结构形貌进行了分析.研究了含硼硅玻璃SiC涂层的C/SiC复合材料在静态空气中700℃、1000℃和1200℃下的氧化行为,并分析了涂层层数对C/SiC复合材料氧化行为的影响.结果表明:含硼硅玻璃SiC涂层在该温度下形成的玻璃相可以较好地封填表面缺陷(裂纹和孔洞);并且随温度升高及涂层层数增加,试样在氧化过程中质量减少率降低,氧化后的强度保持率提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	成来飞		259	2656	22.0	40.0
2	张立同		248	2867	24.0	42.0
3	刘永胜		35	205	9.0	12.0
4	曹素		2	6	1.0	2.0
5	左新章		5	19	3.0	4.0