缓冲气压对CO2激光Al靶等离子体参量的影响

• 作者: 吴涛 唐建 王少义 王新兵 饶志明
• 来源期刊: 激光技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 激光技术 等离子体光谱 电子密度 电子温度
• 年，卷（期）: 2011,（6）
• 所属期刊栏目: 激光与光电子技术应用
• 页码范围: 800-803
• 分类号: O539
• 字数: 1940字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3806.2011.06.021

摘要

为了研究缓冲气压对激光等离子体参量的影响,利用CO2激光烧蚀Al靶产生等离子体,缓冲气压变化范围为10-4pa ～2×103Pa,激光脉冲能量为180mJ/脉冲,在局域热平衡和光学薄等离子体假设下,采用发射光谱法计算了等离子体的电子温度和电子密度,并研究了缓冲气压对这些参量的影响.结果表明,等离子体的电子温度和电子密度分别在1.05eV ～2.47eV与1.95×1016cm-3～10.5×1016cm-3范围内,Al等离子体的电子温度随气压的增大而减少；低缓冲气压时,电子密度随气压增大而减小,当气压达到600Pa时,激光脉冲会击穿空气形成等离子体,电子密度又开始上升,当气压超过3000Pa时,空气等离子体会屏蔽激光脉冲能量,使到达靶面的激光能量急剧下降,Al原子的特征谱线也随之减弱而几乎消失.这一结果对理解缓冲气压对激光与物质相互作用过程的影响是有帮助的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴涛	华中科技大学光电子科学与工程学院武汉光电国家实验室	32	55	5.0	5.0
3	唐建	华中科技大学光电子科学与工程学院武汉光电国家实验室	16	64	5.0	7.0
6	王新兵	华中科技大学光电子科学与工程学院武汉光电国家实验室	55	348	10.0	16.0
7	饶志明	华中科技大学光电子科学与工程学院武汉光电国家实验室	4	5	1.0	2.0
8	王少义	华中科技大学光电子科学与工程学院武汉光电国家实验室	4	10	2.0	3.0