溅射时间对AZO薄膜结构以及光电性能的影响

• 作者: 李晓波 杨瑞霞 王静辉
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 直流磁控溅射 AZO薄膜 X射线衍射 方块电阻 透光率
• 年，卷（期）: 2011,（5）
• 所属期刊栏目: 材料与器件
• 页码范围: 359-362
• 分类号: TN304.21
• 字数: 2619字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353x.2011.05.006

摘要

应用直流磁控溅射在石英玻璃上生长AZO薄膜,利用X射线双晶衍射(XRD)、四探针以及可见光分光光度计,对薄膜结构特性、光学以及电学特性进行了分析,并讨论了溅射时间对薄膜晶体结构、膜厚、方块电阻以及透过率的影响.针对AZO在LED中作为电流扩展层的应用,利用光学模拟软件TFCalc对AZO以及SiO2构成的双层膜的透过率进行了模拟,用溅射和PECVD分别生长AZO以及Si02薄膜加以验证.通过适当的调节薄膜厚度,可使透光率在可见光波段有整体上的提升.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨瑞霞	河北工业大学信息工程学院	180	759	13.0	18.0
2	李晓波	河北工业大学信息工程学院	3	20	2.0	3.0
3	王静辉	中国电子科技集团公司第十三研究所	4	8	2.0	2.0