纯铝材电解液微弧氮化工艺探讨

• 作者: 孙奉娄 戴茂飞
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: 电解液微弧氮化 AlN陶瓷膜 纯铝材 电解液浓度 放电参数 性能
• 年，卷（期）: 2011,（9）
• 所属期刊栏目: 科技关注
• 页码范围: 12-14
• 分类号: TG174.44
• 语种: 中文

摘要

电解液微弧氮化工艺简单，过去未见用其制备AlN膜的报道。采用电解液微弧氮化工艺在纯铝基片上制备了AlN陶瓷膜，利用正交试验优化工艺，研究了最优工艺制备的膜层的物相、形貌，并探讨了占空比、放电频率对膜层硬度、绝缘电阻、耐压值的影响。结果表明：正交试验优化的工艺为100mL超纯水中CO（NH2）235．0g，EDTA-2Na3．0g，放电频率1．0kHz，占空比20％；各因素的影响由主到次依次为CO（NH2）2浓度、占空比、放电频率、EDTA-2Na浓度；最优工艺制备的陶瓷膜由多晶AIN组成，膜层致密；选择适当的占空比和放电频率有利于改善AlN陶瓷膜的性能。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙奉娄	中南民族大学等离子体研究所	76	434	13.0	15.0
2	戴茂飞	中南民族大学等离子体研究所	1	2	1.0	1.0