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铜线键合的抗氧化技术研究
铜线键合的抗氧化技术研究
作者:
从羽奇
张滨海
王家楫
王德峻
范象泉
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
引线键合
铜线
氧化
镀钯
保护气体
摘要:
在铜线键合的过程中通入惰性保护气体,或在纯铜线表面涂覆金属钯防氧化层都可以改善铜线键合的抗氧化性能.为了评价上述两种方法对铜线键合抗氧化性能的改进情况,使用先进的材料表征方法分析不同保护气体流量情况下键合形成的金属熔球的形貌,金属熔球表面的氧原子数分数和表面氧化层的厚度.研究表明,保护气体流量为0.51 L/min时,可以在保证成本较低的情况下获得最佳的抗氧化效果.通过XPS和TEM分析发现,铜线表面涂覆金属钯可以延长铜线的存储寿命,降低键合界面的氧含量,提高键合的可靠性.
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文献信息
篇名
铜线键合的抗氧化技术研究
来源期刊
半导体技术
学科
工学
关键词
引线键合
铜线
氧化
镀钯
保护气体
年,卷(期)
2011,(1)
所属期刊栏目
制造工艺技术
研究方向
页码范围
17-21
页数
分类号
TN305.93
字数
2110字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1003-353x.2011.01.006
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
王家楫
复旦大学材料科学系
25
114
6.0
9.0
2
范象泉
复旦大学材料科学系
3
17
3.0
3.0
3
王德峻
4
23
4.0
4.0
4
从羽奇
4
23
4.0
4.0
5
张滨海
复旦大学材料科学系
4
24
4.0
4.0
传播情况
被引次数趋势
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引文网络
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引证文献(1)
二级引证文献(1)
2020(1)
引证文献(0)
二级引证文献(1)
研究主题发展历程
节点文献
引线键合
铜线
氧化
镀钯
保护气体
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体技术
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1003-353X
CN:
13-1109/TN
开本:
大16开
出版地:
石家庄179信箱46分箱
邮发代号:
18-65
创刊时间:
1976
语种:
chi
出版文献量(篇)
5044
总下载数(次)
38
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