纳米硅镶嵌薄膜的光学性质及对1342nm激光的被动调Q

• 作者: 王加贤 王燕飞 翟云
• 来源期刊: 激光杂志
• 学科: 工学
• 关键词: 激光技术 纳米硅薄膜 1342nm激光 被动调Q 双光子吸收
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 所属期刊栏目: 激光元件与器件
• 页码范围: 10-11
• 分类号: TN248.1
• 字数: 2190字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0253-2743.2011.02.005

摘要

采用射频磁控溅射技术和热退火处理制备了石英衬底的纳米Si镶嵌SiN<,x>(ne-SiN<,x>)薄膜.通过对薄膜的小角度X射线衍射和吸收光谱测试,确定了硅晶粒尺寸和光学带隙.采用Z-扫描技术研究了薄膜的三阶非线性光学特性,结果表明薄膜的非线性吸收属于双光子吸收.把ne-Si/SiN<,x>薄膜作为可饱和吸收体插入LD抽运的Nd:YVO4激光器中,实现了1342nm激光的被动调Q,获得51 ns的激光脉冲.理论分析和实验结果表明,由于纳米Si的光学带隙大于1342nm光子能量,所以双光子饱和吸收导致了1342nm激光的被动调Q.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王加贤	华侨大学信息科学与工程学院	81	268	9.0	12.0
2	王燕飞	华侨大学信息科学与工程学院	6	5	2.0	2.0
3	翟云	华侨大学信息科学与工程学院	5	5	1.0	2.0