得可将在2011年NEPCON华南展上展示印刷应用的先进解决方案

• 来源期刊: 现代表面贴装资讯
• 学科: 工学
• 关键词: 印刷 华南 创新技术 应用 设备供应商 会展中心 NANO 突破性
• 年，卷（期）: 2011,（4）
• 页码范围: 55
• 页数: 1页
• 分类号: TS804

摘要

全球领先的批量成像设备供应商得可公司（DEK）将在即将到来的2011年NEPCON华南展会上带来其最新的印刷创新和技术。展会将于2011年8月30日至9月1日在深圳会展中心举办。得可的全程解决方案包括了一系列硬件、软件和相关服务，从屡获殊荣的印刷平台HorizonhPiX、最新的HawkEyeBridging印刷后检验创新技术到突破性的ProActiv和Nano—ProTek技术应有尽有。